NEWS/피플 고순도 XDI 국내 최초 개발_조상현 수석 연구원 인터뷰 2018. 1. 15. 13:00 지난 12월 21일 한화케미칼은 고순도 XDI 국내 최초 개발, 신기술 인증을 획득했습니다. 2여년간의 노력 끝에 얻을 수 있었던 값진 연구성과였습니다. 이 성과에 도달하기까지 묵묵히 연구개발에 힘 써 주신 연구원분들이 있습니다. 그 연구원들의 대표해 조상현 수석연구원을 만나 고순도 XDI 개발과정과 비하인드 스토리를 들어보았습니다. * 이 콘텐츠의 모든 저작권은 한화케미칼 공식 블로그 케미칼드림에 있습니다. 공유하기 게시글 관리 한화솔루션 케미칼 부문 공식블로그 저작자표시 비영리 변경금지 목록으로 NEWS/피플의 다른글 한화케미칼 해외 지사원의 신년 각오! 2018.01.24 한화케미칼의 스마트한 자기주도학습 최강자 3인방 인터뷰 2018.01.23 [취미가 있는 삶(3)] 흥많은 민족의 스윙마베이비 – 유용욱 대리, 서준호 연구원 2017.12.12 연구원이 알려주는 점심 여가활동 3가지 2017.12.11